SIGMAKOKI/西格瑪光機(jī)反射率測量儀

SIGMAKOKI/西格瑪光機(jī)反射率測量儀
可實(shí)現(xiàn)微小區(qū)域和曲面的反射率測量。
可直接測量未經(jīng)處理的透明薄板的反射率，并能幾乎不受底面反射的影響；可快速高精度測量曲面和平面的反射率。

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SIGMAKOKI/西格瑪光機(jī)反射率測量儀

可實(shí)現(xiàn)微小區(qū)域和曲面的反射率測量。

可直接測量未經(jīng)處理的透明薄板的反射率，并能幾乎不受底面反射的影響；可快速高精度測量曲面和平面的反射率。

采用了特殊結(jié)構(gòu)的半透鏡，能高效地收集被測試樣的反射光，并高效地導(dǎo)入分光光度計(jì)，可快速地完成低反射率樣品的測量。

采用了特殊的光學(xué)結(jié)構(gòu)，有效地避免了底面反射的影響，可直接測量未經(jīng)處理的透明薄板的反射率。
(使用20倍物鏡時(shí)，可測最小透明薄板厚度可達(dá)0.3mm）

采用了特殊鹵素?zé)艉?創(chuàng)的光學(xué)設(shè)計(jì)，其有效光量大，獲取數(shù)據(jù)快，重復(fù)精度高。

測量點(diǎn)小(典型值為φ50μm)，可直接測曲面，以及膜層的分布特性。

結(jié)構(gòu)緊湊，體積小，不占空間。

可用Microsoft® Excel®文件格式保存測量數(shù)據(jù)。

可在同一窗口內(nèi)，同時(shí)顯示多個(gè)樣品的測量結(jié)果(曲線)，
方便數(shù)據(jù)的對比分析。

采用峰值跟蹤技術(shù)，提高了反射率的重復(fù)測量精度

技術(shù)指標(biāo)